Моделирование магнитных систем магнетронных распылительных устройств

1. Данилин Б. С., Сырчин В. К. Магнетронные распылительные системы. М.: Радио и связь; 1982. 72 c.
Danilin B. S., Syrchin V. K. Magnetron sputtering systems. Moscow: Radio i svyaz’ Publ.; 1982. 72 p.
(In Russ.).

2. Кузьмичев А. И. Магнетронные распылительные системы. Кн. 1: Введение в физику и технику магнетронного распыления. Киров: Аверс; 2008. 244 c.
Kuzmichev A. I. Magnetron sputtering systems. Book 1: Introduction to physics and technology of magnetron sputtering. Kirov: Avers Publ.; 2008. 244 p. (In Russ.).

3. Духопельников Д. В. Магнетронные распылительные системы с электромагнитами: автореф. дис. … канд. техн. наук. М., 2007. 16 c. EDN: NIRMRR.
Dukhopelnikov D. V. Magnetron sputtering systems with electromagnets: extended abstract of the Cand. Sci. (Eng.) diss. Moscow, 2007. 16 p. (In Russ.).

4. Голосов Д. А., Завадский С. М., Мельников С. Н. Сквозное моделирование процессов нанесения покрытий при магнетронном распылении. Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С. Фундаментальные науки. 2013;(4):75–82. EDN: TPTBZP.
Golosov D., Zavadsky S., Melnikov S. End-to-end modelling of the processes of application of coatings at magnetron dispensing. Vestnik Polotskogo gosudarstvennogo universiteta. Seriya S. Fundamental’nye nauki = Herald of Polotsk State University. Series C. Fundamental Sciences. 2013;(4):75–82. (In Russ.).

5. Черкунов В. И., Ширяев М. Е., Челапкин Д. Г., Бабич А. В., Трактирщиков В. С. Применение электростатического прижима в микроэлектронике. Наноиндустрия. 2024;17(S10-2):478–482. https://doi.org/10.22184/1993-8578.2024.17.10s.478.482. EDN: OSEIIL.
Cherkunov V. I., Shiryaev M. E., Chelapkin D. G., Babich A. V., Traktirshchikov V. S. The electrostatic chuck in microelectronics. Nanoindustriya = Nanoindustry. 2024;17(S10-2):478–482. (In Russ.). https://doi.org/10.22184/1993-8578.2024.17.10s.478.482

6. Черкунов В. И. Оптимизация неравномерности магнетронного напыления пленок алюминия и оксида алюминия при взаимном перемещении подложки и магнетрона. Изв. СПбГЭТУ ЛЭТИ. 2025;18(1):14–21. https://doi.org/10.32603/2071-8985-2025-18-1-14-21. EDN: ATGFRG.
Cherkunov V. I. Optimization of unevenness of aluminum and aluminum oxide coatings obtained by magnetron sputtering under mutual movement of substrate and magnetron. Izv. SPbGETU LETI = Proceedings of Saint Petersburg Electrotechnical University. 2025;18(1):14–21. (In Russ.). https://doi.org/10.32603/2071-8985-2025-18-1-14-21

7. Колесников А. Г., Горбунов Н. В., Крюков Ю. А. Прогнозирование выработки мишени планарных МРС. Наноиндустрия. 2021;14(2):142–149. https://doi.org/10.22184/1993-8578.2021.14.2.142.149. EDN: PONAUU.
Kolesnikov A. G., Gorbunov N. V., Kryukov Yu. A. Prediction of target erosion of planar MSS. Nanoindustriya = Nanoindustry. 2021;14(2):142–149. (In Russ.). https://doi.org/10.22184/1993-8578.2021.14.2.142.149

8. ООО «Тор». ELCUT: Моделирование электромагнитных, тепловых и упругих полей методом конечных элементов. Версия 6.6: руководство пользователя. [Б. м.]: Издательские решения; 2023. 290 с.
OOO “Tor”. ELCUT: Finite-element simulation of electromagnetic, thermal and elastic fields. Version 6.6: user manual. S. l.: Izdatel’skie resheniya Publ.; 2023. 290 p. (In Russ.).

9. Анорин В. Е. Моделирование магнитного поля магнетронной распылительной системы с плоским катодом. In: Перспективы развития фундаментальных наук: сб. науч. тр. XIX Междунар. конф. студентов, аспирантов и молодых ученых: в 7 т. Томск: Нац. исслед. Томский политехн. ун-т; 2022, т. 1, с. 17–19. EDN: WKMTPU.
Anorin V. E. Simulation of the magnetronic field of a magnetron sputtering system with a flat cathode. In: Perspektivy razvitiya fundamental’nykh nauk: proceedings of 19th International conf. of students, postgraduate students and young scientists: in 7 vol. Tomsk: National Research Tomsk Polytech. Univ.; 2022, vol. 1, pp. 17–19. (In Russ.).

10. Meeker D. Finite element method magnetics. Version 4.2: user’s manual. Finite Element Method Magnetics. 16.05.2020. Available at: https://www.femm.info/wiki/Files/files.xml?action=download&file=manual.pdf (accessed: 27.10.2025).

11. Федотов Ф. С., Телегин А. М. Исследование магнитной ловушки для магнетронной распылительной системы. Успехи прикладной физики. 2022;10(3):301–307. https://doi.org/10.51368/2307-4469-2022-10-3-301-307. EDN: AZQDTS.
Fedotov F. S., Telegin A. M. Study of a magnetic trap for a magnetron sputtering system. Uspekhi prikladnoy fiziki = Advances in Applied Physics. 2022;10(3):301–307. (In Russ.). https://doi.org/10.51368/2307-4469-2022-10-3-301-307

12. Федотов Ф. С., Телегин А. М. Моделирование магнитной ловушки для магнетронной распылительной системы (МРС) с помощью метода конечных элементов с использованием модуля языка Python. Изв. СПбГЭТУ ЛЭТИ. 2023;16(2):85–95. https://doi.org/10.32603/2071-8985-2023-16-2-85-95. EDN: CEFIRS.
Fedotov F. S., Telegin A. M. Simulation of a magnetic trap for a magnetron sputtering system (MPS) using the finite element method using the Python language module. Izv. SPbGETU LETI = Proceedings of Saint Petersburg Electrotechnical University. 2023;16(2):85–95. https://doi.org/10.32603/2071-8985-2023-16-2-85-95

13. Мельников С. Н., Кундас С. П., Свадковский И. В. Моделирование и численные исследования параметров магнетронных распылительных систем. Доклады БГУИР. 2007;(3):80–87.
Mel’nikov S. N., Kundas S. P., Svadkovskiy I. V. Simulation and numerical research parameters of magnetron sputtering systems. Doklady BGUIR. 2007;(3):80–87. (In Russ.).

14. Anderson R. L., Helmer J. C. Sputtering apparatus with a rotating magnet array having a geometry for specified target erosion profile. Patent EU, EP0399710A1, 28.11.1990.

15. COMSOL Multiphysics (version 4.3): user’s guide. ETH Zürich. May 2012. Available at: https://blogs.ethz.ch/ps_comsol/files/2020/05/COMSOLMultiphysicsUsersGuide.pdf (accessed: 27.10.2025).